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電子超純水設備概述
超純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一。超純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出。半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高。采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備,這是一種制取超純水的首選工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟,發(fā)展潛力巨大的超純水制備工藝。
超純水設備
電子工業(yè)用超純水的應用領(lǐng)域
1)半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。
2)超純材料和超純化學(xué)試劑。
3)實(shí)驗室和中試車(chē)間。
4)汽車(chē)、家電表面拋光處理。
5)光電產(chǎn)品。
6)其他高科技精微產(chǎn)品。
電子工業(yè)用超純水設備
制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程
電子行業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種:
方案一:
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線(xiàn)殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對象(≥15 MΩ?cm)
方案二:
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-二級反滲透-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線(xiàn)殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對象(≥17 MΩ?cm)
方案三:
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線(xiàn)殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對象(≥18 MΩ?cm)
在電子光學(xué)超純水設備設計上,通常采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝;或者是全膜法處理工藝:UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18 MΩ?cm以上。
為獲得電子光學(xué)行業(yè)用電導率0.055μS/cm(電阻率18.2MΩ?cm)的理論超純水,在普通EDI超純水設備后,通常還裝設拋光混床進(jìn)行最終的精處理。這種拋光混床用樹(shù)脂是相對密度很接近的陰樹(shù)脂和陽(yáng)樹(shù)脂的混合物,由于無(wú)法將這種樹(shù)脂的陰、陽(yáng)樹(shù)脂分離,不能用酸堿將它們分別再生,所以這種拋光樹(shù)脂失效后,棄之不用。拋光混床又稱(chēng)一次性混床,一般情況用在工藝末端,用來(lái)更進(jìn)一步提高產(chǎn)水水質(zhì)。拋光混床的樹(shù)脂是不能再生重復使用的。一般出水水質(zhì)都能達到18兆歐以上,以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。